Fabrice Oehler

Etude des mécanismes de croissance catalysés des nanofils de silicium

Croissance catalytique de nanofils de silicium par Dépôt Chimique en phase Vapeur. Sprache: Französisch.

kartoniert , 236 Seiten

ISBN 6131552290

EAN 9786131552298

Veröffentlicht Dezember 2010

Verlag/Hersteller Éditions universitaires européennes

€ 76,90 inkl. MwSt.

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Beschreibung

Les nanofils de silicium présentent un fort potentiel technologique, qui ne se révèle que lorsque la taille des objets est bien maîtrisée. L'obtention de ces structures par Dépôt Chimique en phase Vapeur est réalisée par croissance catalysée à partir de précurseurs du silicium chlorés ou hydrogénés. On détaille ici les effets du chlore sur la passivation des surfaces de silicium et des flancs des nanofils. Cette passivation ralentit la diffusion du catalyseur (Au) sur la surface mais ne change pas la cinétique de la croissance (axiale) du fil. On obtient ainsi une croissance reproductible et stable de nanofils notamment pour les diamètres supérieurs à 20 nm. L'effet du chlore est également visible sur les flancs des nanofils, où les facettes évoluent plus ou moins vite selon la vitesse de croissance radiale. La passivation de la surface des nanofils permet donc la stabilisation de leur croissance et le contrôle de leur morphologie.

Portrait

Après un master en physique, je me suis dirigé vers la synthèsede nano-objets par Depot Chimique en phase Vapeur (CVD). Lors dema thèse j'ai étudié plus en détail les nanofils de silicium etles interactions entre les phases gaz et condensées lors d'uneétape de dépot par CVD.