Teoretyczna ocena wspó¿czynnika odbicia w cienkich warstwach AL/SiO2

Poprawa w-äciwo-ci optycznych materiäu, takich jak reflektancja, wi--e si- ze z-o-onym poszukiwaniem optymalnych parametrów eksperymentalnych w procesie ich otrzymywania. Wykorzystanie oprogramowania obliczeniowego do symulacji procesów wzrostu cienkich warstw stanowi istotn- korzy-- ze wzgl-du na brak zale-no-ci od rzeczywistego systemu, jak równie- mo-liwo-- zbadania szerszego zakresu wyst-puj-cych wielko-ci fizycznych. Ponadto, istnieje potrzeba w przemy-le motoryzacyjnym, Varroc Lighting Systems(c) otrzymä zadanie poprawy wspó-czynnika odbicia reflektorów aluminiowych, wi-c przeprowadzili-my rozwój, przy u-yciu oprogramowania NASCAM®, które wykorzystuje metod- kinetyczn- Monte Carlo do opracowania modelu uk-adu fizycznego, który ma by- badany w skali nanometrycznej, pozwoli nam to na analiz- wp-ywu ró-nych wielko-ci, które mog- wp-ywä na wspó-czynnik odbicia materiäu.

Jesús Javier Ortega Cabrera: Master in de ingenieurswetenschappen met oriëntatie op materialen, School voor mechanische en elektrische engineering, Universidad Autónoma de Nuevo León.