De la fotolitografía a la escala nanométrica

Ensayo del año 2025 en eltema Informática - Informatica de negocios, Nota: 8,50, , Materia: 2024-2025, Idioma: Español, Resumen: El presente ensayo académico explora cómo las tecnologías basadas en luz ultravioleta (UV), luz ultravioleta extrema (EUV) y láseres han transformado la arquitectura computacional y la informática moderna, un tema de relevancia crucial en el ámbito académico por su impacto en el desarrollo tecnológico y su influencia en la sociedad contemporánea. Desde los experimentos iniciales con semiconductores en la década de 1960, cuando la fotolitografía UV permitió la creación de los primeros microprocesadores como el Intel 4004, hasta los avances actuales con EUV que han llevado a la fabricación de chips nanométricos con miles de millones de transistores, este trabajo traza una evolución marcada por hitos técnicos significativos. Se destaca cómo la transición a la luz ultravioleta profunda (DUV) en los años 80, liderada por empresas japonesas como Nikon, incrementó la densidad de componentes, mientras que la adopción de la EUV por ASML en los Países Bajos, a partir de 2019, revolucionó la miniaturización, permitiendo nodos de 3 nm fabricados por TSMC y Samsung. Estos desarrollos, respaldados por innovaciones en la física de materiales y la ingeniería óptica, han optimizado el rendimiento energético y la capacidad computacional, sustentando tecnologías como la inteligencia artificial y las redes 5G. Las conclusiones subrayan que estas tecnologías han redefinido los paradigmas de diseño de hardware, consolidándose como pilares de la era digital, aunque también evidencian desafíos como los límites físicos del silicio y la concentración geopolítica de la producción. Este impacto trasciende lo técnico, moldeando la economía global y la dependencia tecnológica de la sociedad moderna.
Palabras Clave: Tecnologías basadas en luz ultravioleta, luz ultravioleta extrema, láseres, arquitectura computacional, informática moderna, fotolitografía UV, Intel 4004, luz ultravioleta profunda, Nikon, EUV, ASML, TSMC.

Licenciado en Gestión de Información en Salud y Máster en Estudios Sociales de la Ciencia y la Tecnología. Diplomado en Capacitación y Desarrollo de los Recursos Humanos. Profesor Universitario e Investigador Agregado.